Seminar

Title: Applied Laser Processing for Semiconductor Fabrication

Presenter: Prof. Joonghan Shin (Division of Mechanical Engineering and Automotive Engineering, Kongju National University)

Abstract:

Over the last ten years, laser processing has played a key role in the fabrication of semiconductor devices. Compared to the conventional heating process using a furnace or a lamp, laser processing has the following unique advantages: (a) local heating is possible with a small beam sot size; (b) raising the temperature of the material beyond its melting point is easily attainable due to high-intensity lasers; and (c) heating of shallow layer of the material just below the surface under the low thermal budget is possible by using an optimal wavelength and an annealing time in the range of milliseconds to nanoseconds. Due to the abovementioned characteristics, laser processing has been widely used in various applications for semiconductor manufacturing. This seminar aims to introduce the major applications (dopant activation, silicidation, void removal, and re-crystallization) of laser processing and the characteristics of laser equipment used for semiconductor manufacturing.